EFEITO DO DOBRO DO TEMPO DE FOTOPOLIMERIZAÇÃO E DO CALOR SOBRE A CITOTOXICIDADE DE SISTEMAS ADESIVOS SELF ETCH

Kathleen Sobieray, Flávia Carolina Abich, Celso Afonso Klein Jr

Resumo


Introdução: Os sistemas adesivos self etch estão com o uso cada vez maior na prática diária, pois apresentam diversas vantagens quando comparados aos adesivos total etch. Objetivo: O objetivo desse estudo foi avaliar a citotoxicidade de diferentes sistemas adesivos self etch polimerizados por diferentes tempos e usando uma fonte alternativa de calor previamente a fotopolimerização. Metodologia: Foram produzidos corpos de prova para cada grupo dos sistemas adesivos Single Bond Universal, Tetric N-Bond Universal e Ambar Universal e fotopolimerizados com diodo emissor de luz por 20 segundos. Foram aplicadas diferentes intensidades de calor e analisados em 24 horas e 7 dias pelo método MTT. Resultados e discussão: Os resultados demonstraram que todos os sistemas adesivos apresentam altas taxas de citotoxicidade e estas aumentam nos 7 dias em comparação com as 24 horas de exposição. Nas análises de 24 horas, não houve diferença entre os adesivos do grupo controle, nos adesivos que receberam o jato de ar morno (37ºC), o adesivo Tetric N-bond decaiu levemente na viabilidade celular, porém os adesivos que receberam jato de ar quente (60ºC) tiveram um ganho na viabilidade celular. Nas análise de 7 dias apenas os que receberam jato de ar quente manteram altas taxas de viabilidade celular. Conclusão: Com isso, conclui-se que a citotoxicidade é elevada em todos os sistemas adesivos e aumenta com o passar do tempo, porém o jato de ar quente (60ºC) aplicado previamente à polimerização reduz esta citotoxicidade dos sistemas adesivos.

 

 


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